硅激光反射鏡基片

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更新時間：2026-05-26
產品介紹：硅激光反射鏡基片采用高導熱率硅基底，專為高熱負荷的高功率與超快激光應用設計。該基片針對嚴苛光學裝置中的高效散熱優化，有助于減輕熱致波前畸變。硅激光反射鏡基片設計為可直接鍍膜的基底，為定制寬帶或低色散反射鏡方案提供靈活基礎。提供12.7mm、25.4mm和50.8mm直徑規格，可靈活集成至各類激光系統配置中。
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硅激光反射鏡基片

硅激光反射鏡基片

硅基底，適用于高熱負荷超快實驗裝置

λ/10表面平整度與40-20表面質量

提供標準直徑規格，便于鍍膜與系統集成

TECHSPEC®硅激光反射鏡基片采用高導熱率硅基底，專為高熱負荷的高功率與超快激光應用設計。該基片針對嚴苛光學裝置中的高效散熱優化，有助于減輕熱致波前畸變。TECHSPEC®硅激光反射鏡基片設計為可直接鍍膜的基底，為定制寬帶或低色散反射鏡方案提供靈活基礎。提供12.7mm、25.4mm和50.8mm直徑規格，可靈活集成至各類激光系統配置中。

平行度（弧分）	＜3
有效孔徑（%）	90
后表面	工業級拋光
表面質量	40-20
涂層規格	無
表面平整度（P-V）	λ/10
涂層	未鍍膜
基底	光學級硅

直徑（mm）	厚度（mm）	涂層	產品編碼
12.70	3.18	未鍍膜	#90-138
25.40	6.35	未鍍膜	#90-139
50.80	9.53	未鍍膜	#90-140

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